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半導體用臭氧水去除有機物質(zhì)臭氧濃度需要達到多少

半導體用臭氧水去除有機物質(zhì)臭氧濃度需要達到多少

使用臭氧水可去除的物質(zhì)以及所需臭氧的濃度

利用臭氧的強氧化能力,可以實現(xiàn)分解并去除大量的雜質(zhì)。

根據(jù)雜質(zhì)的形狀與數(shù)量的不同,所需濃度也將有所變化,請參考下圖數(shù)據(jù)。

此外,如將稀氫氟酸與臭氧水同時使用,去除雜質(zhì)的效果將倍增。


標簽:半導體 臭氧水 有機物質(zhì) 臭氧濃度


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